真空鍍膜機是化工試驗裝置，反應裝置，微反應裝置概念（niàn）及方法（fǎ）材料

真空鍍膜機是化工（gōng）試驗裝置，反應裝置，微反應裝置概念及（jí）方法材（cái）料 
主要指一類需要在較高真空（kōng）度下（xià）進行（háng）的鍍膜,具體包括很多種類（lèi）,包（bāo）括真空鍍膜機（jī）,MBE分子束外延,PLD激（jī）光（guāng）濺射沉積等很多種。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並（bìng）凝（níng）結於鍍件（金屬（shǔ）、半導體或絕緣體）表麵而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。
真空鍍膜是（shì）化（huà）工（gōng）試驗裝置，反應裝置，微（wēi）反應裝置，靜電紡絲設（shè）備是（shì）真空應用領域的（de）一個重要方（fāng）麵，它（tā）是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，並吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和（hé）磁控等一係列新技術，為（wéi）科學研究和實際生產提（tí）供薄膜製備的一種新工藝（yì）。簡單地說，在真空中把金屬（shǔ）、合（hé）金或化合物進行（háng）蒸發或濺射，使其在被塗覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固並沉（chén）積的方法。

真空鍍膜是化工試驗裝置，反應裝置，微反應裝置，靜電紡絲設備的方法（fǎ）材料：
(1)真空蒸鍍：將需鍍（dù）膜的基（jī）體清洗後放到（dào）鍍膜室，抽（chōu）空後將膜料加熱到（dào）高溫，使蒸氣達到約（yuē）13.3Pa而使（shǐ）蒸氣分子飛到基體表麵，凝結而成薄膜。
(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對麵，把惰性氣（qì）體(如氬)通入已抽空的室（shì）內，保持壓強約1.33～13.3Pa，然後（hòu）將（jiāng）陰極接（jiē）上2000V的直流電源，便激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原（yuán）子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。

(3)化學氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物（wù），獲得（dé）沉積薄膜的過程。
(4)離子鍍：實質上離子鍍係真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合，兼有（yǒu）兩者的工藝特點。